Fórmula química VSi2. pes molecular 107,11 crystal Cristall prismàtic metàl·lic. La densitat relativa va ser de 4,42. Insoluble en aigua freda i aigua calenta, soluble en àcid fluorhídric, insoluble en etanol, èter i àcid. Mètode: segons la coincidència La proporció de pentòxid de vanadi / silici reacciona a 1200 ℃, o serà proporcional al metall El vanadi es pot obtenir per reacció del vanadi amb el silici a alta temperatura. Aplicació: s'utilitza per a la resistència als àcids i la resistència al foc
Ciència dels materials.

1. Preparació de pel·lícules primes de silicur de vanadi. Els silicids de capa fina amb bones propietats es poden sintetitzar directament mitjançant la implantació d’ions metàl·lics de vanadi amb alta densitat de feix. Amb l’augment de la densitat del feix, la fase de silicur de vanadi creix i la resistència de la làmina Rs del silicur prim disminueix evidentment. Quan la densitat del feix és de 25 μ A / cm2, RS assoleix el valor mínim de 22 ψ, cosa que indica que s’ha format silicur continu. L'anàlisi de difracció de raigs X va demostrar que a la capa implantada es van formar quatre tipus de silicids de vanadi, inclosos V3Si, V5Si3, V3Si5 i VSi2. Després del recuit, RS disminueix òbviament, es pot reduir el rs mínim a 9 ψ i la resistivitat pot arribar a ser de 72 μ ψ m, cosa que indica que la qualitat de la capa fina de silici de vanadi s’ha millorat encara més. Després de la injecció i el recuit d'alta densitat de feix, la fase de silici de vanadi creix encara més. Injecció d'alta densitat de feix i recuit d'alta temperatura (1200 ℃) estil.

2. El silicur de vanadi és una mena de material ceràmic absorbent del so. La capa superficial amb propietat fonoabsorbent està recoberta a la superfície de la capa base.